光刻机中微半导体设备 中国中微造出3nm刻蚀机,与荷兰ASML光刻机还有多大差距?

时间:2021-07-26 22:23:00 作者:admin 83664
光刻机中微半导体设备 中国中微造出3nm刻蚀机,与荷兰ASML光刻机还有多大差距?

中国中微造出3nm刻蚀机,与荷兰ASML光刻机还有多大差距?

光刻机和刻蚀机是芯片产业链上两道不同的工序,也可以说是一个水桶上的两块不同的桶板,所以怎么比较呢?就好比鸭子和兔子,你能放到一起怎么比?

中微的3纳米刻蚀机在刻蚀机的领域算是做到了顶尖。ASML的EUV光刻机在光刻机领域内也是做到了顶尖。如果要比,这也只能说是两个分别破吉尼斯记录的大兔子和大鸭子吧。

按照甲级足球队和乙级足球队分别踢不同的联赛,那么大概中微的刻蚀机是可以与ASML的光刻机去组成最先进的芯片生产线,这两个设备在这条生产线中都不是那个“掉链子”的环节,这大概就是可以比的地方了。

从“物以类聚”的这个角度来看,中微的刻蚀机和ASML的光刻机都在自己领域内做到最好,是一个档次的东西了。在设计芯片生产线的时候,这两个设备是会被自然而然地设计到一条产线中去,就是最好的比较了。这算是有差距还是没差距呢?大概也就是如此了。

中国“量子芯”大突破!造出3nm芯片刻蚀机,中微到底有多强?

我国企业中微成功研制出3nm的刻蚀机,且相关技术已经进入了可以量产应用的阶段,中国芯片有了重大突破,但这也更深刻地揭示出中国面临的、不公正的光刻机之痛。

与名声在外的光刻机相比,刻蚀机的名字确实相对低调,但这并不意味着刻蚀机不重要,只是因为中国已经拥有了先进的刻蚀机技术而已。客观来说,刻蚀机是与光刻机相提并论的重要芯片加工机器,两者的地位等同,在纳米芯片大规模生产的规程中缺一不可。中微在刻蚀机领域的不断研发、不断开创,成功研发3nm刻蚀机确实是一件令人惊喜的好消息,真是振奋人心、振奋士气。

同样具有极高技术水平的刻蚀机设备

先来简要地介绍一下刻蚀机。

芯片加工大致可以分为两个粗略的环节,一是把芯片工作所需要的芯片架构刻上去,二是要把可能会干扰芯片工作的无用内容消除掉。完成第一个工作的设备就是大名鼎鼎的光刻机,目前世界上最顶尖的光刻机企业来自荷兰,而该企业的科技其实是杂交而来的(即融合了多个国家的多个技术);完成第二个工作的设备就是今天提到的刻蚀机,中国企业在刻蚀机领域一直处于顶尖水平,曾多次突破美国的技术封锁,如今更是再创新高。

中国刻蚀机成功追超世界顶尖水平,而光刻机依旧被美国卡住了脖子,这种悲剧更深刻地揭示出中国面临的、不公正的、光刻机之痛。什么样的痛苦?那就是在某些时刻、在某些领域,中国必须依靠自己的力量、依靠14亿人的拼搏,追逐、赶上其他60亿人的工作。

为什么这么说?这就要从刻蚀机与光刻机的异同说起。很多人都以为刻蚀机的技术要比光刻机简单,但其实并不是这么一回事:光刻机和刻蚀机在技术难度上处于同一水平,只是在技术种类的多与少上有很大的差异,光刻机所需的技术种类要比刻蚀机更多。

光刻机需要什么?它需要工作台、光矫正器、形状设计装置、能量控制装置、能量探测装置,nm级的掩膜设备,高精尖的复杂物镜等多个顶尖的技术设备,涉及到的顶级技术非常多,目前没有任何一个国家可以单独拿出所有的技术。注意,不只是中国,没有国家在以上所有的光刻机技术领域都处于顶级水平,大家都只是拥有其中的一部分,最后通过不同企业的合作来生产顶级光刻机。

相比之下,刻蚀机主要依靠基于感应耦合的等离子体刻蚀技术,主要的技术是高精尖的控制系统、各种射频单元、顶级的光谱测量技术、阻抗监控以及探测技术、压力控制以及质量控制器,它所需的顶级技术在数量上相对较少。因此,中国在经过努力之后,成功追赶上了世界顶级的水平。

刻蚀机和光刻机的对比清楚地告诉我们:不是中国人不努力,不是中国人不聪明,而是中国人需要做的事情太多了。光刻机的技术不是美国单独研发的,而是美国以及众多国家共同研发出来的,中国要追赶的也不是单单一个美国,而是世界上研发光刻机的所有国家,这注定是一个复杂而又艰巨的工作。

中国从不否认自身的不足,也不畏惧竞争者的强大,但中国的光刻机研发者们真的需要时间。

祝愿国产光刻机早日像刻蚀机那样蓬勃发展、一飞冲天。

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